半导体2024年将迎复苏？国产光刻胶产业崛起

2月29日，光刻机（胶）概念表现强势，多只个股涨停。截至当日收盘，扬帆新材（300637.SZ）涨19.94%，容大感光（300576.SZ）涨18.1%。此外，海立股份（600619.SH）、张江高科（600895.SH）等多只个股收获10CM涨停。

研究机构TrendForce认为，半导体行业将在2024年迎来复苏。半导体光刻胶市场也有望反弹。

半导体行业即将复苏？

TrendForce在《2023年全球光刻胶市场分析》中指出，随着下游客户库存的持续改善、产能利用率的恢复，AI、智能汽车等应用的快速发展，预计半导体行业将在2024年迎来复苏。

届时，半导体光刻胶市场也有望迎来反弹，市场规模将恢复到2022年历史峰值水平，并持续增长，到2027年将超过28亿美元。

需要说明的是，光刻胶是从掩膜版转移到硅片所需要的耗材，光刻是IC制造中难度最大的工艺，其工艺技术先进，验证壁垒较高。从市场格局来看，全球光刻胶市场主要被日本、美国企业所垄断。

根据ICInsights的统计，2016年至2021年全球晶圆制造市场规模由652亿美元提升至1101亿美元，复合年增长率为11.05%，同期中国晶圆制造市场规模从49.05亿美元提升至115.65亿美元，复合年增长率达到15.36%，行业增速高于全球。

太平洋证券表示，伴随着晶圆制造规模的持续提升，中国有望承接半导体光刻胶产业链转移。

国产替代空间广阔

据了解，半导体光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，是半导体光刻工艺中的关键材料，光刻胶及其配套试剂在晶圆制造材料成本中占比超过10%。

TECHET统计数据显示，2021年全球半导体光刻胶市场中，合成橡胶、东京应化、信越、杜邦等企业占据的市场份额超过90%，而用于先进工艺的KrF、ArF、EUV光刻胶基本被外资所垄断。

相比之下，中国光刻胶行业发展的起步较晚，国产光刻胶主要应用于平板显示、印刷电路板等领域，而用于晶圆制造、先进封装的半导体光刻胶则主要依赖于进口。

通过多年努力，国内厂商现已实现了g/i线光刻胶的量产，但是更为先进的KrF、ArF、EUV光刻胶仍然未能实现大规模量产。

根据CEMIA的统计，2022年中国集成电路晶圆制造用光刻胶市场规模达到33.58亿元，同比增长约13.5%。其中，KrF光刻胶市场规模为14.06亿元，ArF光刻胶市场规模为8.11亿元，KrF、ArF光刻胶合计占比超过66%。

预计到2025年，中国集成电路晶圆制造用光刻胶市场规模将达到37.64亿元，KrF、ArF光刻胶市场规模将同步增长，预计2025年市场规模将达到25.01亿元。

国内公司积极推进研发

面对广阔的市场空间，以及国产替代的迫切需要，国内厂商正努力推动研发和创新，同时加大相关产品的研发投入力度，持续提升产品性能，进一步完善产品体系。

目前，南大光电（300346.SZ）研发的ArF光刻胶现已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过验证，另外还有多款产品正在下游客户处验证。此外，公司前期通过验证的产品已有少量出货，但尚未形成规模量产。

彤程新材（603650.SH）在互动平台表示，公司ArF光刻胶验证进展顺利，预计今年上半年完成验证并出货。

扬帆新材主要从事光引发剂和巯基化合物及其衍生物的研发、生产及销售。在立足巯基行业的同时，公司持续向下游延伸拓展出以907为代表的包括ITX、BMS、369、379等一系列的光引发剂产品。

上述产品主要用于UV涂料、UV油墨、PCB抗蚀剂等方面的紫外光固化，可使电子线路板绝缘涂料、木器涂料、皮革油墨、柔性油墨等涂层在特定波长的紫外光照射下快速固化，同时还避免了溶剂挥发对环境的影响，更加环保和健康。

除扬帆新材外，容大感光也是国内PCB光刻胶研发、制造领先的企业，多个系列产品的相关性能指标达到或超过国际/国内相关行业标准。该公司的光刻胶产品包括PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等。其中，公司PCB光刻胶所需要的原材料已经实现国产化。